发明授权
- 专利标题: 基板处理装置和检查方法
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申请号: CN201910936746.6申请日: 2019-09-29
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公开(公告)号: CN111009478B公开(公告)日: 2024-07-30
- 发明人: 滨田佳志 , 桾本裕一朗 , 羽山隆史
- 申请人: 东京毅力科创株式会社
- 申请人地址: 日本东京都
- 专利权人: 东京毅力科创株式会社
- 当前专利权人: 东京毅力科创株式会社
- 当前专利权人地址: 日本东京都
- 代理机构: 北京林达刘知识产权代理事务所
- 代理商 刘新宇
- 主分类号: H01L21/67
- IPC分类号: H01L21/67 ; H01L21/677 ; H01L21/687 ; G03F7/30
摘要:
本发明提供一种使摄像图像的质量提高的基板处理装置和检查方法,该摄像图像在利用对被处理基板进行处理的基板处理装置进行处理时的检查中使用。对被处理基板进行处理的基板处理装置具有:旋转保持部,其保持被处理基板并使该被处理基板旋转;摄像部,该摄像部的摄像区域包括被所述旋转保持部保持的被处理基板的表面;光源,其向所述摄像部的所述摄像区域照射光;检查部,其基于所述摄像部的摄像结果来进行检查;以及选择部,其基于得到该摄像结果时的被处理基板的朝向来选择要在所述检查中使用的摄像结果。
公开/授权文献
- CN111009478A 基板处理装置和检查方法 公开/授权日:2020-04-14
IPC分类: