基片处理系统和输送方法

    公开(公告)号:CN118922927A

    公开(公告)日:2024-11-08

    申请号:CN202380027520.9

    申请日:2023-09-25

    IPC分类号: H01L21/677 H01L21/3065

    摘要: 本发明的一个方式的基片处理系统包括:多个处理部,其分别具有能够支承基片和配置在上述基片的周围的环的基片支承部;与上述多个处理部连接的真空输送部;收纳上述环的收纳部;和控制部,上述真空输送部具有输送基片或上述环的输送机械臂,上述控制部进行控制以执行下述步骤:从上述多个处理部和上述真空输送部移除所有基片的移除步骤;和在上述移除步骤之后,在上述多个处理部中的至少一个处理部与上述收纳部之间输送上述环的输送步骤。

    基板输送系统以及基板处理系统

    公开(公告)号:CN118919467A

    公开(公告)日:2024-11-08

    申请号:CN202410954969.6

    申请日:2018-06-29

    IPC分类号: H01L21/677 H01L21/67

    摘要: 本发明涉及基板输送系统以及基板处理系统。输送装置保持被薄板化的基板,并且沿着输送所述基板的输送路径移动,其中,该输送装置具有:抓持部,其用于抓持借助带安装有所述基板的框架;引导部,其与所述抓持部一同沿着所述输送路径移动,载置由所述抓持部抓持的所述框架;以及移动机构部,其通过使所述抓持部相对于所述引导部移动,使由所述抓持部抓持的所述框架沿着所述引导部移动。

    基板处理装置
    5.
    发明公开
    基板处理装置 审中-公开

    公开(公告)号:CN118901126A

    公开(公告)日:2024-11-05

    申请号:CN202380028551.6

    申请日:2023-03-15

    摘要: 本发明的载体沿第一搬送路径被搬送。对该载体内的多张基板进行处理。与第一搬送路径的起点相邻地设置有第一待机部。第一待机部将收纳有未处理的多张基板的载体移交到第一搬送路径的起点。与第一搬送路径的终点相邻地设置有第二待机部。第二待机部接收收纳有处理后的多张基板的载体。从该载体取出多张基板。从将第二待机部和第一待机部相连的待机搬送路径拾起使用后的载体,并进行清洗。清洗后的载体被返回到待机搬送路。

    一种提高离子注入机晶圆传输效率的传输系统

    公开(公告)号:CN118899251A

    公开(公告)日:2024-11-05

    申请号:CN202410990387.3

    申请日:2024-07-23

    发明人: 方明江 蔡成振

    摘要: 本发明公开了一种提高离子注入机晶圆传输效率的传输系统,属于晶圆传输系统技术领域,其包括:准备工装模块,其内部划分有多个工装工位,所述工装工位处均设置有承载机构;装载口模块,设置在准备工装模块的相对前方,所述装载口模块为排列分布的多个;悬挂取送臂,架设在各所述装载口模块的相对上方,所述装载口模块中设有物料运输系统;本发明中尤其承载机构采用的脉冲气流动作能够检测晶圆夹持稳定性,从而识别判断真空机械手组件能否对晶圆安全性翻转、运移,以便晶圆从前置转运移载模块输送至后置转运移载模块时直接略过临时载台模块,减少不必要重复动作,从而提高传输效率。

    一种太阳能硅片单面镀镍生产线
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118895496A

    公开(公告)日:2024-11-05

    申请号:CN202411021793.5

    申请日:2024-07-29

    发明人: 沈皓然 张海龙

    摘要: 本发明公开了一种太阳能硅片单面镀镍生产线包括:上料机构和剔除机构,所述上料机构用以将预定位置处的硅片沿第一方向搬运上料,并能够在第二方向上将硅片未镀镍的一面翻转向上后朝向所述剔除机构输送;所述剔除机构能够沿第一方向对承接的硅片进行输送检测以剔除存在缺陷的硅片;送料机构和镀镍机构,所述送料机构能够承接所述剔除机构所输送的合格的硅片,并能够将合格的硅片朝向所述镀镍机构输送;所述镀镍机构能够对所述送料机构所输送的合格的硅片进行镀镍;下料机构,用于承接并输送所述镀镍机构镀镍完成的硅片;本发明可解决传统的太阳能硅片在进行化学镀镍时,难以采用全自动化的方式对硅片进行镀镍操作,存在硅片镀镍效率低的问题。

    等离子清洗设备用翻转装置

    公开(公告)号:CN111261560B

    公开(公告)日:2024-11-05

    申请号:CN202010200248.8

    申请日:2020-03-20

    摘要: 本发明涉及半导体加工设备领域,尤其涉及一种等离子清洗设备用翻转装置,包括翻转机构、载片机构和传送机构,所述翻转机构用于带动载片机构进行翻转,所述载片机构设于翻转机构上,用于承载待清洗产品,所述传送机构用于将载片机构上的待清洗产品送入等离子清洗设备。本发明装置结构简单,能够实现对待清洗产品的接料、翻转和送料,操作简便,翻转效率高,并且翻转过程中不会对产品带来污染,清洗效果好。

    存储库的密封门装置
    10.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118888486A

    公开(公告)日:2024-11-01

    申请号:CN202411347871.0

    申请日:2024-09-26

    发明人: 赵萌 吕如杰 刘帝

    摘要: 本发明公开了一种存储库的密封门装置,包括机架,其上贯穿设置有左右连通的料口,料口内设有用以容置晶圆盒的暂存位;门板组件,设置有两组并分别位于料口的两侧;每组门板组件均包括启闭驱动部、门板部,门板部在启闭驱动部的作用下升降移动以启闭料口;门板部包括内门板、外门板、弹性件,内门板靠近料口设置,并通过弹性件与外门板连接;外门板与启闭驱动部连接;压紧组件,与门板组件一一对应设置,其包括止挡部、联动部;止挡部设置在机架上并位于料口的上方,用以供对应的门板组件的内门板抵接;联动部设置在内门板、外门板之间,并能上下摆动以使内门板向靠近或远离外门板的方向移动。本发明能有效抑制氮气在料口处的外漏问题。