发明公开
CN111094635A 表面处理装置及表面处理方法
无效 - 撤回
- 专利标题: 表面处理装置及表面处理方法
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申请号: CN201880059714.6申请日: 2018-08-23
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公开(公告)号: CN111094635A公开(公告)日: 2020-05-01
- 发明人: 奥田朋士 , 松山大辅 , 立花真司 , 内海雅之
- 申请人: 上村工业株式会社
- 申请人地址: 日本大阪
- 专利权人: 上村工业株式会社
- 当前专利权人: 上村工业株式会社
- 当前专利权人地址: 日本大阪
- 代理机构: 北京润平知识产权代理有限公司
- 代理商 戴香芸; 刘兵
- 优先权: 2017-180414 2017.09.20 JP
- 国际申请: PCT/JP2018/031065 2018.08.23
- 国际公布: WO2019/058860 JA 2019.03.28
- 进入国家日期: 2020-03-13
- 主分类号: C25D17/00
- IPC分类号: C25D17/00 ; B05C3/04 ; B05D1/18 ; C23C18/16 ; C23C18/31 ; C25D7/00 ; C25D7/12 ; C25D17/08 ; C25D21/10
摘要:
本发明提供一种在对被处理物实施表面处理时,可以提高表面处理品质的表面处理装置及表面处理方法。该表面处理装置是对至少一部分浸渍在液体中的被处理物进行表面处理的装置,该装置具有向被处理物的被处理面喷射处理液的喷射部,所述喷射部与所述被处理物相对设置,并且该装置具有喷射部旋转机构和被处理物旋转机构中的至少一者,所述喷射部旋转机构使所述喷射部在与所述被处理物的被处理面平行的面内旋转,所述被处理物旋转机构使所述被处理物在与从所述喷射部喷射的处理液的喷射方向垂直的面内旋转。