发明授权
- 专利标题： 一种蚀刻方法
-
申请号： CN201911245106.7申请日： 2019-12-06
-
公开(公告)号： CN111225509B公开(公告)日： 2021-08-06
- 发明人: 张振文 , 詹俊 , 崔嵩 , 许海仙 , 史常东
- 申请人： 中国电子科技集团公司第四十三研究所
- 申请人地址： 安徽省合肥市高新区合欢路19号
- 专利权人： 中国电子科技集团公司第四十三研究所
- 当前专利权人： 中国电子科技集团公司第四十三研究所
- 当前专利权人地址： 安徽省合肥市高新区合欢路19号
- 代理机构： 合肥天明专利事务所
- 代理商 张梦媚
- 主分类号： H05K3/06
- IPC分类号： H05K3/06
摘要：
本发明公开了一种蚀刻方法，包括以下步骤：清洗待蚀刻基板的表面后，在基板的上下表面均热压感光膜；设计蚀刻图形，其中，半蚀刻部分设计为透光线条和不透光线条间隔排列的栅格状结构，根据所述蚀刻图形光绘菲林膜后，将所述菲林膜贴合在已经热压感光膜的待蚀刻基板的表面进行曝光；对曝光后的基板进行蚀刻；对蚀刻后的基板表面进行微蚀。本发明中的蚀刻方法采用一次湿法蚀刻同时实现铜片的半蚀刻和全蚀刻，减化了工序。
公开/授权文献
- CN111225509A 一种蚀刻方法 公开/授权日：2020-06-02
