发明授权
- 专利标题： 全息图介质和光学元件
-
申请号： CN201980005248.8申请日： 2019-09-10
-
公开(公告)号： CN111279415B公开(公告)日： 2021-10-22
- 发明人: 金宪 , 张锡勋 , 权洗铉 , 张影来 , 边真锡
- 申请人： 株式会社LG化学
- 申请人地址： 韩国首尔
- 专利权人： 株式会社LG化学
- 当前专利权人： 株式会社LG化学
- 当前专利权人地址： 韩国首尔
- 代理机构： 北京鸿元知识产权代理有限公司
- 代理商 李静; 张云志
- 优先权： 10-2018-0110419 20180914 KR
- 国际申请： PCT/KR2019/011714 2019.09.10
- 国际公布： WO2020/055096 KO 2020.03.19
- 进入国家日期： 2020-04-20
- 主分类号： G11B7/24044
- IPC分类号： G11B7/24044 ; C08K5/00 ; C08K5/02 ; C08K5/54 ; C08L33/08 ; C08L71/12
摘要：
本公开内容涉及一种全息图介质和光学元件，所述全息图介质包括：聚合物基底，该聚合物基底包含硅烷类官能团位于主链或支链中的聚合物树脂，其中，在所述聚合物基底的至少一个表面上形成精细图案。
公开/授权文献
- CN111279415A 全息图介质和光学元件 公开/授权日：2020-06-12
IPC分类:
