公开(公告)号：CN118742958A

公开(公告)日：2024-10-01

申请号：CN202380022996.3

申请日：2023-02-15

申请人： 科思创德国股份有限公司

发明人： L·诺尔特 ,  T·罗勒 ,  F-K·布鲁德 ,  J·弗兰克

IPC分类号： G11B7/24044 ,  G11B7/245

摘要： 本发明涉及光聚合物组合物，其包含a)基质聚合物，b)书写单体，c)至少一种光引发剂体系，d)任选地，至少一种非光聚合组分，e)任选地，催化剂、自由基稳定剂、溶剂、添加剂和其它助剂和/或添加剂，其中所述至少一种光引发剂体系c)由至少一种染料和至少一种共引发剂组成，其中所述染料的至少一种具有根据式(II)的结构，并且其中所述至少一种共引发剂具有在乙腈中相对于饱和甘汞电极(SCE)的1.01V至1.31V的计算氧化电位(A)，该计算氧化电位根据以下公式(1)通过在溶剂乙腈中根据PCM方法进行溶剂场校正的情况下在进行几何优化之后对三芳基烷基硼酸盐的基态和氧化态在298K下的吉布斯能量进行量子力学计算确定，该几何优化由通过AMI力场的构象异构体能量最小化和然后基于先前确定的分子几何坐标进行从头构象异构体能量计算构成#imgabs0#

公开(公告)号：CN113906504B

公开(公告)日：2023-07-04

申请号：CN202080033922.6

申请日：2020-05-04

申请人： 元平台技术有限公司

发明人： 马修·科尔伯恩 ,  奥斯汀·莱恩

IPC分类号： G11B7/245 ,  C08F2/48 ,  C08F2/50 ,  C08F20/18 ,  C08L75/04 ,  C09D4/06 ,  G03H1/02 ,  G11B7/24044

摘要： 本文公开的技术涉及全息光学材料和元件。全息记录材料的实例包括通过第一折射率表征并被配置成聚合以形成聚合物基质的基质单体、分散在基质单体中并通过不同于第一折射率的第二折射率表征的写入单体、以及用于写入单体的受控自由基聚合的光催化剂。写入单体被配置成在暴露于记录光时聚合。光催化剂被分散在基质单体中。光催化剂包括例如过渡金属光催化剂或无金属的有机光催化剂，诸如用于原子转移自由基聚合的光催化剂或用于加成断裂链转移聚合的过渡金属光催化剂。

公开(公告)号：CN113795533A

公开(公告)日：2021-12-14

申请号：CN202080009912.9

申请日：2020-01-07

申请人： 索尼集团公司

发明人： 原援又 ,  大江贵裕 ,  五十岚絵里 ,  川崎健志郎 ,  保原大介

IPC分类号： C08G59/68 ,  G03H1/02 ,  C08K5/16 ,  C08L63/00 ,  G11B7/24044 ,  G02B5/32

摘要： 目的是提供一种能够进一步改善全息图的衍射特性和透明性的全息记录组合物。本技术提供了一种全息记录组合物，其至少包含铬染料、环氧单体和聚合引发剂，所述铬染料的脱色体具有包含伯氨基和/或仲氨基的结构。本技术还提供了一种全息记录介质，所述全息记录介质包括光敏层，所述光敏层至少包含铬染料、环氧单体和聚合引发剂，所述铬染料的脱色体具有包含伯氨基和/或仲氨基的结构。此外，本技术还提供了一种使用所述全息记录介质的全息光学元件。此外，本技术还提供了一种使用所述全息光学元件的光学装置和光学部件。本技术还提供了一种用于形成全息衍射光栅的方法，所述方法包括：通过具有空间调制幅度的电磁束使全息记录介质选择性地反应。

公开(公告)号：CN111279415A

公开(公告)日：2020-06-12

申请号：CN201980005248.8

申请日：2019-09-10

申请人： 株式会社LG化学

发明人： 金宪 ,  张锡勋 ,  权洗铉 ,  张影来 ,  边真锡

IPC分类号： G11B7/24044 ,  C08K5/00 ,  C08K5/02 ,  C08K5/54 ,  C08L33/08 ,  C08L71/12

摘要： 本公开内容涉及一种全息图介质和光学元件，所述全息图介质包括：聚合物基底，该聚合物基底包含硅烷类官能团位于主链或支链中的聚合物树脂，其中，在所述聚合物基底的至少一个表面上形成精细图案。

公开(公告)号：CN110582808A

公开(公告)日：2019-12-17

申请号：CN201880030710.5

申请日：2018-05-08

申请人： 科思创德国股份有限公司

发明人： S.科斯特罗明 ,  B.赫尔茨贝格 ,  T.勒莱 ,  D.赫内尔 ,  T.费克 ,  H-G.奥韦勒

IPC分类号： G11B7/24044 ,  G03H1/02 ,  B42D25/328

摘要： 本发明涉及一种包含可固化的保护层C和光致聚合物层B的层结构，一种用于制备该层结构的方法，一种通过使用该层结构制备全息图的方法，一种密封全息介质以及该层结构用于制备全息图的用途。

公开(公告)号：CN105993045B

公开(公告)日：2019-07-09

申请号：CN201380081891.1

申请日：2013-11-28

申请人： 斯威本科技大学

发明人： 顾敏 ,  李向平 ,  曹耀宇

IPC分类号： G11B7/24044 ,  G11B7/0045 ,  G11B7/0065

CPC分类号： G11B7/1263 ,  G11B7/0045 ,  G11B7/0065 ,  G11B7/128 ,  G11B7/13 ,  G11B7/24044 ,  G11B2007/00457

摘要： 记录数据的方法、设备、光学数据存储系统和记录介质。该记录介质包括在存在具有第一特性的光学辐射时诱导介质的性质变化的光学活性材料，性质变化由具有第二特性的光学辐射抑制。在记录期间，记录介质的区域用具有第一特性的第一束光学辐射照射，该束在所照射区域的中心部分内具有引起记录介质的性质的光学诱导变化的足够强度和足够持续时间。同时，用具有第二特性的第二束光学辐射照射记录介质的该区域，第二束在所照射区域的中心部分内具有局部强度最小值，并在所照射区域的邻近中心部分的至少一部分中具有足以抑制记录介质的性质的光学诱导变化的局部强度最大值。类似方法用于获取，然而降低第一束的强度以防止记录介质内的材料性质的变化。

公开(公告)号：CN102667935B

公开(公告)日：2016-01-20

申请号：CN201080060489.1

申请日：2010-11-02

申请人： 拜尔材料科学股份公司

发明人： M-S.魏泽 ,  F-K.布鲁德 ,  T.罗勒 ,  T.费克 ,  D.赫内尔 ,  J.霍夫曼

IPC分类号： G11B7/24044 ,  G11B7/245 ,  G03H1/02 ,  C08G18/10 ,  C08G18/42 ,  C08G18/44 ,  C08G18/48 ,  C08G18/78 ,  C08G18/79 ,  G03F7/00 ,  G03F7/004

CPC分类号： G11B7/245 ,  C08G18/10 ,  C08G18/4238 ,  C08G18/4277 ,  C08G18/44 ,  C08G18/4825 ,  C08G18/485 ,  C08G18/4854 ,  C08G18/7831 ,  C08G18/7837 ,  C08G18/7887 ,  C08G18/792 ,  C08K5/0016 ,  G03F7/001 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/035 ,  G03H1/02 ,  G03H2001/0264 ,  G03H2260/12 ,  G11B7/24044

摘要： 本发明涉及包含基质聚合物、书写单体和光引发剂的光聚合物制剂，其包含至少两种不同的书写单体的组合。本发明还涉及该光聚合物制剂用于制造光学元件，特别是用于制造全息元件和图像的用途、制造该光聚合物制剂的方法和照射由该光聚合物制剂制成的全息介质的方法。

公开(公告)号：CN102741925B

公开(公告)日：2015-12-16

申请号：CN201080061628.2

申请日：2010-11-02

申请人： 拜尔材料科学股份公司

发明人： F-K·布鲁德 ,  D·赫内尔 ,  M-S·魏泽 ,  T·罗勒 ,  T·费克

IPC分类号： G11B7/24044 ,  G11B7/245 ,  G11B7/26

CPC分类号： G11B7/245 ,  G03H2260/12 ,  G03H2260/30 ,  G11B7/24044 ,  G11B7/26

摘要： 本发明涉及生产全息膜的方法，其中提供光聚合物配制品，其包含基质聚合物、书写单体、光引发剂体系和任选助剂和添加物，将所述光聚合物配制品作为薄膜平面施加到基底上，并干燥所述薄膜，其中使用具有≥0.03MPa的平台模量G0的光聚合物配制品。本发明还提供可通过本发明的方法获得的全息介质。

公开(公告)号：CN104903960A

公开(公告)日：2015-09-09

申请号：CN201380063662.7

申请日：2013-11-22

申请人： 通用电气公司

发明人： E.P.博登 ,  史晓蕾

IPC分类号： G11B7/24044 ,  G11B7/24038

CPC分类号： G11B7/24044 ,  G11B7/0065 ,  G11B7/24038 ,  G11B7/24041 ,  G11B7/24067 ,  G11B7/248 ,  G11B7/249 ,  G11B7/26 ,  G11B2007/00656 ,  Y10T156/10 ,  Y10T428/21 ,  Y10T428/24802 ,  Y10T428/24942 ,  Y10T428/2495 ,  Y10T428/24975 ,  Y10T428/265 ,  Y10T428/31504 ,  Y10T428/31507 ,  Y10T428/3154 ,  Y10T428/31855 ,  Y10T428/31935 ,  Y10T428/31938

摘要： 一种部件，所述部件包括堆叠的交错膜结构，所述膜结构包括光惰性的多个层。交替层掺杂有反饱和吸收(RSA)材料或所述RSA材料位于邻近的惰性层之间。在一些实施方案中，所述惰性交替层具有不同的折射指数。还公开了数据存储装置和生产方法。

公开(公告)号：CN104040629A

公开(公告)日：2014-09-10

申请号：CN201280066056.6

申请日：2012-12-27

申请人： 拜耳知识产权有限责任公司

发明人： M-S.魏泽尔 ,  S.塔德杰巴赫 ,  U.弗莱姆 ,  D.赫内尔 ,  F-K.布鲁德 ,  T.费克 ,  T.罗勒 ,  H.贝内特

IPC分类号： G11B7/245 ,  G03F7/00 ,  G11B7/24044

CPC分类号： G03F7/001 ,  B42D25/328 ,  C08G18/2885 ,  C08G18/4277 ,  C08G18/4854 ,  C08G18/4887 ,  C08G18/71 ,  C08G18/715 ,  C08G18/73 ,  C08G18/755 ,  C08G18/758 ,  C08G18/792 ,  C08G18/8175 ,  G03H1/0011 ,  G03H1/0256 ,  G03H1/265 ,  G03H2001/0264 ,  G03H2250/35 ,  G03H2260/12 ,  G03H2260/14 ,  G11B7/24044 ,  G11B7/245 ,  Y10T428/1429 ,  Y10T428/24802 ,  Y10T428/24843 ,  Y10T428/263 ,  Y10T428/2809 ,  Y10T428/2848

摘要： 本发明涉及包含曝光的光聚合物薄膜和至少局部与所述光聚合物薄膜粘接的粘合剂层的层复合材料，其中所述光聚合物薄膜包含交联的聚氨酯基质聚合物A)、交联的书写单体B)和单体氟代氨基甲酸酯添加剂C)，其中所述粘合剂层形成为氟代氨基甲酸酯添加剂C)的扩散屏障。本发明的另一主题是所述层复合材料用于制造芯片卡、身份证件或3D图像；作为产品保护标签；作为标签；以条带或窗口形式在钞票中；或作为显示器中的全息光学元件的用途。