发明授权
- 专利标题: 半导体制造装置用构件、其制法及成型模具
-
申请号: CN201880070786.0申请日: 2018-10-31
-
公开(公告)号: CN111316418B公开(公告)日: 2024-01-30
- 发明人: 曻和宏 , 木村拓二
- 申请人: 日本碍子株式会社
- 申请人地址: 日本爱知县
- 专利权人: 日本碍子株式会社
- 当前专利权人: 日本碍子株式会社
- 当前专利权人地址: 日本爱知县
- 代理机构: 北京银龙知识产权代理有限公司
- 代理商 钟晶; 金鲜英
- 优先权: 2017-212932 2017.11.02 JP
- 国际申请: PCT/JP2018/040588 2018.10.31
- 国际公布: WO2019/088203 JA 2019.05.09
- 进入国家日期: 2020-04-29
- 主分类号: H01L21/683
- IPC分类号: H01L21/683 ; B28B1/14 ; B28B7/00
摘要:
本发明的半导体制造装置用构件具备内置电极的陶瓷制的圆板以及支撑上述圆板的陶瓷制的轴,圆板与轴以没有接合界面的状态一体化。
公开/授权文献
- CN111316418A 半导体制造装置用构件、其制法及成型模具 公开/授权日:2020-06-19
IPC分类: