发明公开
- 专利标题： 曝光装置
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申请号： CN201910134999.1申请日： 2019-02-20
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公开(公告)号： CN111352306A公开(公告)日： 2020-06-30
- 发明人: 林建宏 , 陈泳超 , 许芷玮 , 李育升 , 曾绍崟
- 申请人： 财团法人工业技术研究院
- 申请人地址： 中国台湾新竹县竹东镇中兴路4段195号
- 专利权人： 财团法人工业技术研究院
- 当前专利权人： 财团法人工业技术研究院
- 当前专利权人地址： 中国台湾新竹县竹东镇中兴路4段195号
- 代理机构： 中科专利商标代理有限责任公司
- 代理商 张宇园
- 优先权： 107146594 2018.12.22 TW
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20
摘要：
一种曝光装置，包括光学装置组以及衬底承载平台。光学装置组包括多个光源、至少一旋转式光束偏折元件以及至少一反射镜组。这些光源用以发出多个光束。每一反射镜组包括多个反射镜。衬底承载平台适于使设置于衬底承载平台上的曝光衬底沿着相对移动方向相对于光学装置组移动。这些光束依序经过至少一旋转式光束偏折元件以及这些反射镜而投射至曝光衬底上，其中通过至少一旋转式光束偏折元件的旋转，这些光束投射至曝光衬底上的轨迹形成多条扫描线。
公开/授权文献
- CN111352306B 曝光装置 公开/授权日：2022-06-14
IPC分类:
