- 专利标题： 一种掩模版姿态监测方法、装置及掩模版颗粒度检测设备
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申请号： CN201811630079.0申请日： 2018-12-28
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公开(公告)号： CN111380509A公开(公告)日： 2020-07-07
- 发明人: 张一志 , 杨晓青
- 申请人： 上海微电子装备(集团)股份有限公司
- 申请人地址： 上海市浦东新区自由贸易试验区张东路1525号
- 专利权人： 上海微电子装备(集团)股份有限公司
- 当前专利权人： 上海微电子装备(集团)股份有限公司
- 当前专利权人地址： 上海市浦东新区自由贸易试验区张东路1525号
- 代理机构： 北京品源专利代理有限公司
- 代理商 孟金喆
- 主分类号： G01C21/00
- IPC分类号： G01C21/00 ; G01C1/00 ; G01N15/02
摘要：
本发明公开了一种掩模版姿态监测方法、装置及掩模版颗粒度检测设备，其中，监测方法包括：获取至少一个标定点至标准面沿第一方向的距离；获取至少一个标定点至待测掩模版上第一检测点、第二检测点和第三检测点沿第一方向的距离，根据获取的数据计算待测掩模版相对于标准面绕第二方向的偏转角度以及绕第三方向的偏转角度，本发明能够在掩模版颗粒度检测过程中，在线对掩模版的姿态进行监测，简化监测设备，提高监测效率。
公开/授权文献
- CN111380509B 一种掩模版姿态监测方法、装置及掩模版颗粒度检测设备 公开/授权日：2022-04-01
