一种晶粒尺寸可控ITO陶瓷靶材的制备方法，包括：将质量份数为90～97的In2O3粉体和质量份数为10～3的SnO2粉体，与去离子水、稀释剂、粘结剂和高分子材料用砂磨机球磨混合，得到固含量在70～80％之间、粘度在120～300mpa.s之间的ITO陶瓷浆料，且混合粉体的平均粒径D50控制在100～300nm；ITO陶瓷浆料经压力注浆成形，得到相对密度为58～62％的ITO陶瓷生坯体；将ITO陶瓷生坯体放入脱脂烧结一体化炉，加热至脱脂温度700～800℃，将ITO陶瓷靶材在常压氧气氛中进行脱脂处理，时间设定为12～36小时；从脱脂温度升温到第一烧结温度1600～1650℃，常压氧气氛保温0～60min，随即降低到第二烧结温度1500～1540℃，常压氧气氛保温12～36小时，最终得到ITO陶瓷靶材。