一种基于等离子体约束的LPP-EUV光源系统，包括泵浦激光脉冲源、带有光学窗片的真空室、凸透镜、靶材、磁镜装置和椭球面镜。由泵浦激光脉冲源产生泵浦激光脉冲，泵浦激光脉冲通过光学窗片进入真空室，再经凸透镜聚焦而作用于靶材。泵浦激光脉冲作用于靶材而产生等离子体，等离子体被约束在磁镜装置中而产生EUV辐射，所产生的EUV辐射经椭球面镜反射而聚焦。本发明利用磁镜装置中非均匀磁场对等离子体的约束作用，提升LPP-EUV光源的功率输出能力并抑制LPP所产生的碎屑污染，从而保障EUV光刻系统的高效稳定运行。