Invention Grant
- Patent Title: 一种PIPN结构的发光二极管及其制备方法
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Application No.: CN202010230868.6Application Date: 2020-03-27
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Publication No.: CN111403563BPublication Date: 2021-06-25
- Inventor: 卓祥景 , 万志 , 程伟 , 蔺宇航 , 尧刚
- Applicant: 厦门乾照光电股份有限公司
- Applicant Address: 福建省厦门市火炬高新区(翔安)产业区翔天路259-269号
- Assignee: 厦门乾照光电股份有限公司
- Current Assignee: 厦门乾照光电股份有限公司
- Current Assignee Address: 福建省厦门市火炬高新区(翔安)产业区翔天路259-269号
- Agency: 北京集佳知识产权代理有限公司
- Agent 骆宗力
- Main IPC: H01L33/00
- IPC: H01L33/00 ; H01L33/14 ; H01L33/32
Abstract:
本申请公开了一种PIPN结构的发光二极管及其制备方法,该发光二极管在有源层和N型结构层之间设置了一层P型插入层,P型插入层一方面可作为电子的阻挡层,降低电子传输效率。另一方面由于P型插入层的存在,使得发光二极管由原本的PIN结构变成PIPN结构,这将大大减少整个有源层的内建电场,该内建电场的方向由N型结构层指向P型空穴供给层,即该内建电场对空穴的电场力阻碍了有源层中空穴往N型结构层方向的传输,因此对该内建电场的减弱有利于提高空穴向N型结构层方向的传输。P型插入层在这两方面的作用,可缩小电子和空穴传输效率的差异,从而使得电子和空穴在有源层中可以均匀分布,大大提高了电子和空穴的碰撞几率,进而提升辐射复合效率。
Public/Granted literature
- CN111403563A 一种PIPN结构的发光二极管及其制备方法 Public/Granted day:2020-07-10
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