发明公开
CN111477767A 沉积掩模单元
审中-公开
- 专利标题: 沉积掩模单元
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申请号: CN202010060829.6申请日: 2020-01-19
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公开(公告)号: CN111477767A公开(公告)日: 2020-07-31
- 发明人: 赵俊豪 , 文敏浩 , 朴永浩 , 崔玲硕
- 申请人: 三星显示有限公司
- 申请人地址: 韩国京畿道龙仁市
- 专利权人: 三星显示有限公司
- 当前专利权人: 三星显示有限公司
- 当前专利权人地址: 韩国京畿道龙仁市
- 代理机构: 北京铭硕知识产权代理有限公司
- 代理商 田野; 韩芳
- 优先权: 10-2019-0009497 2019.01.24 KR
- 主分类号: H01L51/56
- IPC分类号: H01L51/56 ; H01L27/32
摘要:
提供了一种沉积掩模单元,所述沉积掩模单元包括:沉积掩模片,包括多个开口;以及沉积掩模框架,包括凸起部,沉积掩模片在凸起部处可附着到沉积掩模框架,凸起部包括支撑部以及从支撑部的上表面突出的接合部,接合部的上表面是弯曲的。
IPC分类: