本发明涉及单晶硅片制绒剂技术领域，公开了单晶硅表面处理用的制绒添加剂，按照重量百分比计包括：木质素磺酸钠0.01‑1.0％，聚萘甲醛磺酸钠0.0001‑0.01％，聚乙二醇0.2‑4％，二乙二醇丁醚1.5‑5％，全氟己基磺酸钾1.5‑2.5％，二乙基辛酸钠0.1‑5％，水82‑96％。还公开了单晶硅表面处理用的制绒剂，将上述制绒添加剂加入到1％‑2％的氢氧化钠或氢氧化钾溶液中，在20‑80℃的温度下混合均匀，其中制绒添加剂与碱溶液的质量比为(1‑5):100。还公开了单晶硅表面制绒的方法：将单晶硅片预先处理；将预处理后的单晶硅片浸入制绒剂中进行制绒，制绒温度为70‑90℃，制绒时间为300‑1200s。使用本发明的制绒添加剂和制绒剂处理后的单晶硅表面达到良好的制绒效果，绒面大小可控，出绒率高，反射率低，片面洁净，制绒剂使用寿命长。