本发明提供一种掩膜板，用于对光敏材料层进行曝光，所述光敏材料层包括待去除区域、待保留区域和连接在所述待去除区域与所述待保留区域之间的斜坡形成区域，所述掩膜板包括与所述待去除区域对应的透光区域和位于所述透光区域之外的遮光区域，其中，所述遮光区域中设置有遮光层，所述遮光层上设置有与所述斜坡形成区域对应的光衍射图形，所述光衍射图形用于在曝光时使光线衍射，以使所述光敏材料层在完成曝光和显影后，在所述斜坡形成区域形成坡度角小于或等于30°的斜坡面。本发明还提供一种显示基板及其制备方法、显示装置。本发明可以使斜坡面的坡度角更佳平缓，有利于提高产品良率。