Invention Grant
- Patent Title: 光学对准装置及光刻系统
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Application No.: CN201910100238.4Application Date: 2019-01-31
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Publication No.: CN111505914BPublication Date: 2021-06-25
- Inventor: 孙建超
- Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
- Applicant Address: 上海市浦东新区张东路1525号
- Assignee: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
- Current Assignee: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
- Current Assignee Address: 上海市浦东新区张东路1525号
- Agency: 上海思捷知识产权代理有限公司
- Agent 王宏婧
- Main IPC: G03F9/00
- IPC: G03F9/00 ; G03F7/20
Abstract:
本发明提供了一种光学对准装置和光刻系统，可以兼容窄标记的对准扫描，能够有效提高标记的扫描信号能量，抑制标记与标记、标记与光刻线条之间的光串扰，提高对准精度。进一步地，所述成像单元中的光束调制元件包括多个一一对应地设置在所述光束限制元件的除通过所述衍射光栅的±1级衍射光束以外的通光区域位置上的子部件，可以消除零级光和杂散光的干扰，进一步提高标记的扫描信号能量，提高对准精度。
Public/Granted literature
- CN111505914A 光学对准装置及光刻系统 Public/Granted day:2020-08-07
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