- 专利标题: 二硫化钼/二硫化钨多层掺钽薄膜及其制备方法与应用
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申请号: CN202010716602.2申请日: 2020-07-23
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公开(公告)号: CN111621745A公开(公告)日: 2020-09-04
- 发明人: 蒲吉斌 , 曾春 , 王海新 , 王立平 , 薛群基
- 申请人: 中国科学院宁波材料技术与工程研究所
- 申请人地址: 浙江省宁波市镇海区庄市大道519号
- 专利权人: 中国科学院宁波材料技术与工程研究所
- 当前专利权人: 中国科学院宁波材料技术与工程研究所
- 当前专利权人地址: 浙江省宁波市镇海区庄市大道519号
- 代理机构: 南京利丰知识产权代理事务所
- 代理商 王锋
- 优先权: 202010057982.3 2020.01.19 CN
- 主分类号: C23C14/06
- IPC分类号: C23C14/06 ; C23C14/16 ; C23C14/35
摘要:
本发明公开了一种二硫化钼/二硫化钨多层掺钽薄膜及其制备方法与应用。所述二硫化钼/二硫化钨多层掺钽薄膜包括在其厚度方向上依次层叠的钛过渡层、钛/钽/二硫化钼/二硫化钨多层梯度过渡层和二硫化钼/二硫化钨多层钽掺杂层。所述制备方法包括:采用磁控溅射技术,在基体表面依次沉积钛过渡层、钛/钽/二硫化钼/二硫化钨多层梯度过渡层和二硫化钼/二硫化钨多层钽掺杂层,获得二硫化钼/二硫化钨多层掺钽薄膜。本发明的二硫化钼/二硫化钨多层掺钽薄膜具有良好的基底结合强度、硬度及弹性模量,在大气环境不同温度下均具有良好的摩擦磨损性能、良好温度自适应性能、耐湿热、耐高温氧化性能,能满足航空航天飞行器润滑稳定及长寿命服役要求。
公开/授权文献
- CN111621745B 二硫化钼/二硫化钨多层掺钽薄膜及其制备方法与应用 公开/授权日:2021-10-26
IPC分类: