溅射镀膜方法、装置及系统
摘要:
本申请实施例提供一种溅射镀膜方法、装置及系统,方法包括:获取靶材在镀膜过程中的当前靶电压;根据所述当前靶电压与设定电压值的电压差值和所述电压差值在设定时间周期内的变化速率和变化总量,确定气体流量调控值;根据所述气体流量调控值确定镀膜过程中的气体流量装置的工作功率;本申请能够有效监控镀膜过程中的等离子反应速率,及时调整反应气体流量,提高镀膜效率和准确率。
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