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公开(公告)号：CN111647865B
公开(公告)日：2020-11-24
申请号：CN202010780454.0
申请日：2020-08-06
申请人： 北京卓立汉光仪器有限公司
摘要： 本申请实施例提供一种溅射镀膜方法、装置及系统，方法包括：获取靶材在镀膜过程中的当前靶电压；根据所述当前靶电压与设定电压值的电压差值和所述电压差值在设定时间周期内的变化速率和变化总量，确定气体流量调控值；根据所述气体流量调控值确定镀膜过程中的气体流量装置的工作功率；本申请能够有效监控镀膜过程中的等离子反应速率，及时调整反应气体流量，提高镀膜效率和准确率。
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公开(公告)号：CN111647865A
公开(公告)日：2020-09-11
申请号：CN202010780454.0
申请日：2020-08-06
申请人： 北京卓立汉光仪器有限公司
摘要： 本申请实施例提供一种溅射镀膜方法、装置及系统，方法包括：获取靶材在镀膜过程中的当前靶电压；根据所述当前靶电压与设定电压值的电压差值和所述电压差值在设定时间周期内的变化速率和变化总量，确定气体流量调控值；根据所述气体流量调控值确定镀膜过程中的气体流量装置的工作功率；本申请能够有效监控镀膜过程中的等离子反应速率，及时调整反应气体流量，提高镀膜效率和准确率。
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公开(公告)号：CN110441278A
公开(公告)日：2019-11-12
申请号：CN201910806058.8
申请日：2019-08-29
申请人： 北京卓立汉光仪器有限公司
摘要： 本申请提供了一种使信号倍增的装置及方法，包括：光源、透镜组、激发单色仪、比色皿、发射单色仪、至少一凹面反射镜、激发光汇聚透镜组和信号收集透镜组；光源发出的光依次经过透镜、激发单色仪、激发光汇聚透镜组进入比色皿激发出荧光信号后经过信号收集透镜组及发射单色仪后进入检测器；凹面反射镜设置在激发光光路及信号收集光路之外的其他光路上。利用本申请，可以实现对激发光和荧光信号进行收集利用的功能，能够解决现有技术中激发光的利用率低以及荧光信号收集有限的问题。
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公开(公告)号：CN211086086U
公开(公告)日：2020-07-24
申请号：CN201921424562.3
申请日：2019-08-29
申请人： 北京卓立汉光仪器有限公司
摘要： 本申请提供了一种使信号倍增的装置，包括：光源、透镜组、激发单色仪、比色皿、发射单色仪、至少一凹面反射镜、激发光汇聚透镜组和信号收集透镜组；光源发出的光依次经过透镜、激发单色仪、激发光汇聚透镜组进入比色皿激发出荧光信号后经过信号收集透镜组及发射单色仪后进入检测器；凹面反射镜设置在激发光光路及信号收集光路之外的其他光路上。利用本申请，可以实现对激发光和荧光信号进行收集利用的功能，能够解决现有技术中激发光的利用率低以及荧光信号收集有限的问题。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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