发明公开
- 专利标题: 阵列基板及其制作方法和显示装置
-
申请号: CN202010596764.7申请日: 2020-06-28
-
公开(公告)号: CN111697021A公开(公告)日: 2020-09-22
- 发明人: 卢鑫泓 , 周靖上 , 朱小研 , 王珂 , 曹占锋 , 齐琪
- 申请人: 京东方科技集团股份有限公司
- 申请人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 专利权人: 京东方科技集团股份有限公司
- 当前专利权人: 京东方科技集团股份有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 代理机构: 北京银龙知识产权代理有限公司
- 代理商 许静; 胡影
- 主分类号: H01L27/15
- IPC分类号: H01L27/15 ; H01L23/528 ; H01L21/768 ; G09F9/30 ; G09F9/33
摘要:
本发明提供一种阵列基板及其制作方法和显示装置,该阵列基板包括柔性衬底基板、第一金属层、至少一层无机材料层和至少一层有机材料层,柔性衬底基板包括发光区、弯折区和绑定区,弯折区包括走线区和非走线区,第一金属层包括位于走线区的沿第一方向延伸的多条金属走线;至少一层有机材料层中的第一有机材料层的位于非走线区的第一部分的厚度小于位于走线区的第二部分的厚度,第一有机材料层为至少一层有机材料层中的远离柔性衬底基板的一层,和/或,至少一层无机材料层中的至少部分无机材料层位于非走线区的部分被去除。本发明能够减小阵列基板的弯折区的最外层的有机材料层的应力,从而避免在弯折时有机材料层发生断裂。
公开/授权文献
- CN111697021B 阵列基板及其制作方法和显示装置 公开/授权日:2023-04-21
IPC分类: