发明公开
CN111811648A 光谱仪及其制备方法
审中-实审
- 专利标题: 光谱仪及其制备方法
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申请号: CN202010707007.2申请日: 2020-07-21
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公开(公告)号: CN111811648A公开(公告)日: 2020-10-23
- 发明人: 周健
- 申请人: 京东方科技集团股份有限公司
- 申请人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 专利权人: 京东方科技集团股份有限公司
- 当前专利权人: 京东方科技集团股份有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 代理机构: 北京博思佳知识产权代理有限公司
- 代理商 张玲玲
- 主分类号: G01J3/02
- IPC分类号: G01J3/02 ; G01J3/28 ; B81C1/00
摘要:
本申请提供一种光谱仪及其制备方法。所述光谱仪包括谐振腔,所述谐振腔包括相对设置的第一反射层及第二反射层。所述光谱仪还包括超表面结构,所述超表面结构形成于所述第一反射层朝向所述第二反射层的一侧,所述超表面结构与所述第二反射层间隔设置。所述超表面结构包括多个间隔排布的结构单元,所述结构单元包括多个阵列排布的柱状结构。同一所述结构单元的柱状结构在所述第一反射层上的正投影的面积相同,至少两个所述结构单元的柱状结构在所述第一反射层上的正投影的面积不同。