本发明公开了一种用于外延反应腔室的衬里装置及外延反应腔室，装置包括：下部衬环以及置于下部衬环上方且与下部衬环同轴设置的上部衬环；下部衬环的朝向上部衬环的一面设置有的导气槽和排气槽，导气槽和排气槽沿下部衬环的周向相对设置，且导气槽的导气方向与下部衬环的轴向成角度；上部衬环包括环本体和设置于环本体上的第一延伸部和第二延伸部，第一延伸部自环本体的外边缘朝向导气槽延伸，以与下部衬环配合形成进气部，第二延伸部自环本体的外边缘朝向排气槽延伸，以与下部衬环配合形成排气部。实现使进入到工艺腔室的气流场更加平顺、均匀，提高外延工艺效果。