发明授权
- 专利标题: 肖特基二极管及其制备方法
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申请号: CN202011005172.X申请日: 2020-09-23
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公开(公告)号: CN111864004B公开(公告)日: 2021-01-01
- 发明人: 赵自然 , 胡海帆 , 马旭明 , 肖雄
- 申请人: 同方威视技术股份有限公司
- 申请人地址: 北京市海淀区双清路同方大厦A座2层
- 专利权人: 同方威视技术股份有限公司
- 当前专利权人: 同方威视技术股份有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市海淀区双清路同方大厦A座2层
- 代理机构: 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司
- 代理商 桑敏
- 主分类号: H01L31/108
- IPC分类号: H01L31/108 ; H01L31/0216 ; H01L31/0224 ; H01L31/0352 ; H01L31/18
摘要:
本公开涉及肖特基二极管及其制备方法。一种肖特基二极管包括:衬底层;位于衬底层上的第一结构和第二结构,其中第一结构与第二结构之间为隔离槽结构,第一结构包括第一主体区和从第一主体区延伸的悬臂梁,第二结构包括第二主体区;以及肖特基接触结构,该肖特基接触结构包括:台面结构,位于第二主体区上;以及钝化层,位于第二主体区上并且包围台面结构,其中钝化层的厚度与台面结构的厚度相同;以及接触金属层,位于台面结构上并与悬臂梁的端部相接,其中,接触金属层与台面结构相接触并且接触金属层的接触面尺寸大于台面结构的顶面尺寸,并且其中钝化层内部嵌入有重掺杂多晶硅,该重掺杂多晶硅具有导电特性。
公开/授权文献
- CN111864004A 肖特基二极管及其制备方法 公开/授权日:2020-10-30
IPC分类: