发明授权
- 专利标题: 二进制程序过程间静态污点分析方法及系统
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申请号: CN202011151815.1申请日: 2020-10-26
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公开(公告)号: CN112016099B公开(公告)日: 2021-04-02
- 发明人: 黄晖 , 陆余良 , 黄曙光 , 赵顺恺 , 甘桂华 , 赵军 , 钟晓峰 , 卢灿举
- 申请人: 中国人民解放军国防科技大学
- 申请人地址: 湖南省长沙市开福区德雅路109号
- 专利权人: 中国人民解放军国防科技大学
- 当前专利权人: 中国人民解放军国防科技大学
- 当前专利权人地址: 湖南省长沙市开福区德雅路109号
- 代理机构: 中国和平利用军工技术协会专利中心
- 代理商 刘光德
- 主分类号: G06F21/57
- IPC分类号: G06F21/57
摘要:
本发明的二进制程序过程间静态污点分析方法及系统,包括:二进制控制结构分析模块、到达定值分析模块和污点传播分析模块,其中,二进制控制结构分析模块计算预设目标程序的控制结构视图;到达定值分析模块基于所述控制结构视图,运算出目标程序内各个程序点的到达定值状态;污点传播模块按照所运算出的到达定值状态,计算出目标程序内各个程序点的污点状态。本发明依托于统一的上下文敏感、流敏感的过程间静态分析框架定制具体的分析算法;通过到达定值分析获取运行时各个机器位置对应的定值集合,提升间接跳转、指针别名的解析精度;在此基础上构建静态过程间污点分析引擎,由此提供针对二进制程序的静态全路径污点传播分析能力手段。
公开/授权文献
- CN112016099A 二进制程序过程间静态污点分析方法及系统 公开/授权日:2020-12-01