发明公开
CN112023865A 一种半导体石墨反应釜
无效 - 驳回
- 专利标题: 一种半导体石墨反应釜
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申请号: CN202010685962.0申请日: 2020-07-16
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公开(公告)号: CN112023865A公开(公告)日: 2020-12-04
- 发明人: 戴雪飞
- 申请人: 大同新成新材料股份有限公司
- 申请人地址: 山西省大同市新荣区花园屯村
- 专利权人: 大同新成新材料股份有限公司
- 当前专利权人: 大同新成新材料股份有限公司
- 当前专利权人地址: 山西省大同市新荣区花园屯村
- 代理机构: 太原荣信德知识产权代理事务所
- 代理商 杨凯; 连慧敏
- 主分类号: B01J19/20
- IPC分类号: B01J19/20 ; B01J19/00 ; B01J4/00
摘要:
本发明公开了一种半导体石墨反应釜,包括石墨反应釜体,所述石墨反应釜体外侧的底部位置处设置有出料管,所述出料管顶部的中间位置处设置有出料阀门,且出料阀门的输出端延伸至出料管的内部,所述出料管的内侧均匀设置有弧形挡板,所述石墨反应釜体顶部的一侧设置有进料口,所述进料口的顶部位置处设置有仓盖,所述进料口的内侧设置有滑槽,且滑槽延伸至进料口的内壁;本发明装置通过增加活塞和滑动杆,在反应釜产生气体时,气压推动活塞,从而使得气体能够从出气口排出,维持内部压强平衡;通过设置螺旋搅拌叶,且在搅拌叶外侧增加挡板,使得搅拌叶在搅拌时,能够减缓反应物的离心作用,减少对反应釜内壁的撞击。