本发明公开了一种金刚石及其制备方法和应用，该金刚石的制备方法包括（1）通过对基片台的基材材料进行处理，获得易于与金刚石膜分离的表面；（2）采取等离子体化学气相沉积法，在基片台表面形成金刚石膜层，其中等离子体化学气相沉积采用多种能量源耦合等离子体；（3）对金刚石膜层进行后处理，以去除其中金刚石表面的杂质材料及与金刚石膜主体性能不一致的形核层和/或应力层。本发明通过对工艺整体进行综合设计，尤其是通过前期基片台的基材材料进行处理，沉积工艺中多种能量源的耦合，以及特定的后处理，实现稳定的高质量大面积的金刚石膜的制备。该方法具有厚度可控，质量可控，成本可控等优点，为金刚石在刀具、热沉等领域奠定了基础。