发明公开
- 专利标题: 发光二极管外延片、芯片及其制备方法
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申请号: CN202010693608.2申请日: 2020-07-17
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公开(公告)号: CN112038461A公开(公告)日: 2020-12-04
- 发明人: 王群 , 郭炳磊 , 葛永晖 , 董彬忠 , 李鹏
- 申请人: 华灿光电(苏州)有限公司
- 申请人地址: 江苏省苏州市张家港市经济开发区晨丰公路28号
- 专利权人: 华灿光电(苏州)有限公司
- 当前专利权人: 京东方华灿光电(苏州)有限公司
- 当前专利权人地址: 215600 江苏省苏州市张家港市经济开发区晨丰公路28号
- 代理机构: 北京三高永信知识产权代理有限责任公司
- 代理商 吕耀萍
- 主分类号: H01L33/32
- IPC分类号: H01L33/32 ; H01L33/12 ; H01L33/02
摘要:
本公开提供了一种发光二极管外延片、芯片及其制备方法,属于半导体技术领域。发光二极管外延片包括衬底、缓冲层、未掺杂氮化镓层、N型半导体层、有源层、P型半导体层和插入半导体层,缓冲层、未掺杂氮化镓层、N型半导体层、有源层、P型半导体层依次层叠在衬底上,插入半导体层位于缓冲层和未掺杂氮化镓层之间;插入半导体层内具有多个空腔,每个空腔贯穿插入半导体层;多个空腔间隔分布在第一表面上,第一表面为缓冲层远离衬底的表面;每个空腔的横截面的面积沿远离第一表面的方向先减小后增大,横截面为空腔平行于第一表面的截面。本公开有利于将射向芯片非正面的光线反射到芯片正面射出,提高LED的正面出光效率。
公开/授权文献
- CN112038461B 发光二极管外延片、芯片及其制备方法 公开/授权日:2021-11-05
IPC分类: