发明公开
- 专利标题: 一种晶圆深孔电镀前处理润湿方法
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申请号: CN202011306377.1申请日: 2020-11-19
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公开(公告)号: CN112397422A公开(公告)日: 2021-02-23
- 发明人: 王健 , 陈云利 , 李军 , 周志强 , 朱洋洋 , 刘斌
- 申请人: 苏州尊恒半导体科技有限公司
- 申请人地址: 江苏省苏州市昆山市玉山镇南淞路303号2号房
- 专利权人: 苏州尊恒半导体科技有限公司
- 当前专利权人: 苏州尊恒半导体科技有限公司
- 当前专利权人地址: 江苏省苏州市昆山市玉山镇南淞路303号2号房
- 主分类号: H01L21/67
- IPC分类号: H01L21/67 ; C25D7/12
摘要:
本发明涉及一种晶圆深孔电镀前处理润湿方法,首先将晶圆放置于载具内,并将载具搬运到密闭的装置内;进而将密闭的装置内的气体全部抽走;进一步的向装置内通一定量的水;进而振动装置工作带动密闭装置与其内的水和晶圆一起振动;保持一段时间后开始破真空工序:抽气装置打开使外部的气体进入密闭装置内,保持一段时间后再次进行抽真空工序:将密闭的装置内的气体全部抽走;再然后振动装置再次工作带动密闭装置与其内的水和晶圆一起振动;当振动工序再次结束后再次进行破真空工序:抽气装置打开使外部的气体进入密闭装置内。本发明提供一种晶圆深孔电镀前处理润湿方法,提高了硅晶圆的润湿效果,提高了后段电镀的品质。
公开/授权文献
- CN112397422B 一种晶圆深孔电镀前处理润湿方法 公开/授权日:2023-08-29
IPC分类: