- 专利标题: 阵列基板及其制备方法、液晶显示面板及显示装置
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申请号: CN201910798360.3申请日: 2019-08-27
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公开(公告)号: CN112447760B公开(公告)日: 2024-03-15
- 发明人: 张云天 , 江鹏 , 戴珂 , 刘金刚 , 韩丽辉 , 吴忠厚 , 张春旭 , 李萌萌
- 申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方显示技术有限公司
- 申请人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号;
- 专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,合肥京东方显示技术有限公司
- 当前专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,合肥京东方显示技术有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号;
- 代理机构: 北京中博世达专利商标代理有限公司
- 代理商 张静尧
- 主分类号: H01L27/12
- IPC分类号: H01L27/12 ; H01L23/552 ; H01L21/77 ; G02F1/1362
摘要:
本发明提供了一种阵列基板及其制备方法、液晶显示面板及显示装置,涉及显示技术领域,能够提高显示装置的显示效果。其中的阵列基板,包括:衬底、设置于衬底上的薄膜晶体管以及数据线;薄膜晶体管包括依次设置于衬底上的有源层图案、源极和漏极;数据线与源极、漏极同层同材料。阵列基板还包括设置于数据线靠近衬底一侧的保留图案和第一遮光图案,保留图案位于第一遮光图案与数据线之间;保留图案、第一遮光图案与数据线一一对应,且沿衬底厚度方向,第一遮光图案的正投影覆盖保留图案的正投影,保留图案的正投影与数据线的正投影重叠;其中,保留图案与有源层图案同层同材料。
公开/授权文献
- CN112447760A 阵列基板及其制备方法、液晶显示面板及显示装置 公开/授权日:2021-03-05
IPC分类: