发明授权
- 专利标题： 正性光刻胶组合物的热处理方法
- 专利标题（英）： Thermal treatment process of positive photoresist composition
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申请号： CN97192770.7申请日： 1997-02-27
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公开(公告)号： CN1124521C公开(公告)日： 2003-10-15
- 发明人: R·R·达梅尔 , 卢炳宏 , M·A·斯巴克 , O·阿利勒
- 申请人： 克拉里安特国际有限公司
- 申请人地址： 瑞士穆坦茨
- 专利权人： 克拉里安特国际有限公司
- 当前专利权人： 英属维尔京群岛托尔托拉
- 当前专利权人地址： 瑞士穆坦茨
- 代理机构： 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
- 代理商 黄泽雄
- 优先权： 60/013,010 1996.03.07 US
- 国际申请： PCT/US1997/03075 1997.02.27
- 国际公布： WO1997/33206 EN 1997.09.12
- 进入国家日期： 1998-09-03
- 主分类号： G03F7/38
- IPC分类号： G03F7/38
摘要：
描述了对于重氮萘醌磺酸酯-酚醛清漆正性光刻胶的快速后曝光烘烤(快速PEB)方法，该方法提供了显著的优点。该方法优选在底抗反射涂层上使用比抗蚀剂普通后曝光烘烤(PEB)较高的温度(≥130℃)和很短的烘烤时间(≤30秒)。它明显地提高了光刻胶的分辨能力、工艺宽容度、热变形温度、抗蚀剂附着力和抗等离子蚀刻性。
公开/授权文献
- CN1225727A 正性光刻胶组合物的热处理方法 公开/授权日：1999-08-11
IPC分类:
