发明公开
CN112514540A 等离子体处理装置用部件
审中-实审
- 专利标题： 等离子体处理装置用部件
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申请号： CN201980047802.9申请日： 2019-07-17
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公开(公告)号： CN112514540A公开(公告)日： 2021-03-16
- 发明人: 花待年彦 , 诸田修平 , 高原刚 , 泷本优 , 横山响 , 光田拓史 , 荒木良仁 , 味泽贤吾
- 申请人： 日本发条株式会社 , 株式会社泉科技
- 申请人地址： 日本国神奈川县横滨市;
- 专利权人： 日本发条株式会社,株式会社泉科技
- 当前专利权人： 日本发条株式会社,株式会社泉科技
- 当前专利权人地址： 日本国神奈川县横滨市;
- 代理机构： 北京德崇智捷知识产权代理有限公司
- 代理商 贺征华
- 优先权： 2018-135083 20180718 JP
- 国际申请： PCT/JP2019/028164 2019.07.17
- 国际公布： WO2020/017566 JA 2020.01.23
- 进入国家日期： 2021-01-18
- 主分类号： H05H1/24
- IPC分类号： H05H1/24 ; C23C28/04 ; C25D11/04 ; C25D11/12 ; C25D11/18 ; H01L21/3065 ; C25D11/00
摘要：
本发明的等离子体处理装置用部件包括：铝基材；以及氧化被膜，其形成在铝基材上，具有多孔质结构，其中，氧化被膜包括：第一氧化被膜，其形成在铝基材的表面上，第二氧化被膜，其形成在第一氧化被膜的与铝基材侧相反的一侧，以及第三氧化被膜，其形成在第二氧化被膜的与第一氧化被膜侧相反的一侧，第一氧化被膜比第二氧化被膜及第三氧化被膜硬，在第一氧化被膜、第二氧化被膜和第三氧化被膜的各被膜中形成的孔被封孔。
公开/授权文献
- CN112514540B 等离子体处理装置用部件 公开/授权日：2024-06-07
IPC分类:
