发明公开
CN112688169A 一种半导体激光bar条以及半导体外腔
无效 - 撤回
- 专利标题: 一种半导体激光bar条以及半导体外腔
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申请号: CN202011572378.0申请日: 2020-12-25
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公开(公告)号: CN112688169A公开(公告)日: 2021-04-20
- 发明人: 肖瑜 , 唐霞辉 , 周鹏 , 胡聪 , 马豪杰 , 张成杰
- 申请人: 华中科技大学 , 深圳华中科技大学研究院
- 申请人地址: 湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号;
- 专利权人: 华中科技大学,深圳华中科技大学研究院
- 当前专利权人: 华中科技大学,深圳华中科技大学研究院
- 当前专利权人地址: 湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号;
- 代理机构: 华中科技大学专利中心
- 代理商 李智
- 主分类号: H01S5/22
- IPC分类号: H01S5/22 ; H01S5/20 ; H01S5/00
摘要:
本发明公开了一种半导体激光bar条以及半导体外腔,属于半导体激光阵列相干合束领域,半导体激光bar条包括:多个发光单元以及位于相邻发光单元之间的不发光区域;发光单元与高阶厄米高斯光束的波峰一一对应,不发光区域与高阶厄米高斯光束的节线一一对应,且各发光单元的宽度与其对应波峰两端零点之间的宽度相等,各不发光区域与其对应节线重合,各发光单元的宽度不相等,其中,高阶厄米高斯光束由半导体激光bar条和外腔相互作用产生。这种非均匀分布的半导体激光bar条支持高阶厄米高斯模式振荡,在腔内产生高阶厄米高斯模式时,引入的耦合损耗最低,每个发光单元的宽度和高阶厄米高斯模式相匹配,可提高耦合效率,进而提高相干合束的功率和稳定性。