一种供如半导体制造设备中气体供给系统用的流体供给设备，它使得有可能在开始供给流体或流体转换时高精度控制流体流速而不产生流体的瞬时过冲现象。本发明的流体供给设备包括：压力流量控制器，用来调节流体的流率；流体转换阀，用来打开和关闭压力流量控制器次级侧的流体通道；以及流体供给控制单元，用来控制压力流量控制器和流体转换阀的操作；压力流量控制器包括：注流孔5；设置在注流孔5上游侧的控制阀1；设置在控制阀1和注流孔5之间的压力检测器3；以及计算控制单元6，它把流率信号Qc和流率指定信号Qs之间的差值作为控制信号Qy输入到控制阀1的驱动器2，流率信号Qc是利用流率Qc＝KP1(K＝常数)、根据由压力检测器3检测到的压力P1计算的；其中，通过借助打开和关闭控制阀1来调节注流孔上游侧的压力P1而控制注流孔5下游侧的流率。