发明公开
- 专利标题: 含氟嘧啶化合物及其制造方法
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申请号: CN201980061589.7申请日: 2019-11-28
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公开(公告)号: CN112739689A公开(公告)日: 2021-04-30
- 发明人: 清野淳弥 , 青津理恵 , 小金敬介
- 申请人: 优迈特株式会社
- 申请人地址: 日本东京都
- 专利权人: 优迈特株式会社
- 当前专利权人: 优迈特株式会社
- 当前专利权人地址: 日本东京都
- 代理机构: 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司
- 代理商 朴今春
- 优先权: 2018-229889 20181207 JP
- 国际申请: PCT/JP2019/046489 2019.11.28
- 国际公布: WO2020/116296 JA 2020.06.11
- 进入国家日期: 2021-03-19
- 主分类号: C07D401/04
- IPC分类号: C07D401/04 ; C07D403/04 ; C07B61/00 ; C07D239/34
摘要:
提供在第4位和第6位上具有取代基、在第2位上具有吡啶环结构或二嗪环结构的新型含氟嘧啶化合物、以及能够简单地制造含氟嘧啶化合物的制造方法。一种含氟嘧啶化合物,用下述通式(1)、(2)、(3)、(4)、(5)或(6)表示,在通式(1)~(6)中,R表示碳原子数为1~12的烃基,X和Y分别独立地表示氢原子、卤原子、碳原子数为1~10的烃基、‑CnF2n+1、硝基、硼酸基、‑OA1、‑SOmA1、‑NA1A2、‑COOA1或‑CONA1A2,A1、A2分别独立地表示氢原子或碳原子数为1~10的烃基,n为1~10的整数,m为0~3的整数。
公开/授权文献
- CN112739689B 含氟嘧啶化合物及其制造方法 公开/授权日:2022-06-03