Invention Grant
- Patent Title: 一种抛光垫
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Application No.: CN202011617011.6Application Date: 2020-12-31
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Publication No.: CN112809550BPublication Date: 2022-04-22
- Inventor: 刘敏 , 黄学良 , 邱瑞英 , 王腾 , 杨佳佳 , 张季平
- Applicant: 湖北鼎汇微电子材料有限公司 , 长江存储科技有限责任公司 , 湖北鼎龙控股股份有限公司
- Applicant Address: 湖北省武汉市经济技术开发区东荆河路1号; ;
- Assignee: 湖北鼎汇微电子材料有限公司,长江存储科技有限责任公司,湖北鼎龙控股股份有限公司
- Current Assignee: 湖北鼎汇微电子材料有限公司,长江存储科技有限责任公司,湖北鼎龙控股股份有限公司
- Current Assignee Address: 湖北省武汉市经济技术开发区东荆河路1号; ;
- Main IPC: B24B37/26
- IPC: B24B37/26 ; B24B37/22 ; B24B37/24
Abstract:
本发明公开一种抛光垫，包括研磨层，所述研磨层包括至少两个同心圆沟槽，定义最内侧的同心圆沟槽为第一同心圆，最外侧的同心圆沟槽为第二同心圆；第一同心圆和第二同心圆界定多个研磨区域，由圆心到研磨层边缘三个研磨区的宽度依次为W1,W2,W3，本发明通过对抛光垫的不同研磨区及其沟槽的相关参数以及研磨层，缓冲层物性参数进行综合设计，使得本发明的抛光垫具有优异的综合性能。
Public/Granted literature
- CN112809550A 一种抛光垫 Public/Granted day:2021-05-18
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