发明公开
- 专利标题: 一种多场调控忆阻器及其制备方法
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申请号: CN202110120943.8申请日: 2021-01-28
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公开(公告)号: CN112885964A公开(公告)日: 2021-06-01
- 发明人: 王燕 , 吕子玉 , 吴鹏 , 许涌 , 赵巍胜
- 申请人: 北京航空航天大学合肥创新研究院(北京航空航天大学合肥研究生院)
- 申请人地址: 安徽省合肥市新站高新区文忠路999号
- 专利权人: 北京航空航天大学合肥创新研究院(北京航空航天大学合肥研究生院)
- 当前专利权人: 北京航空航天大学合肥创新研究院(北京航空航天大学合肥研究生院)
- 当前专利权人地址: 安徽省合肥市新站高新区文忠路999号
- 代理机构: 合肥天明专利事务所
- 代理商 苗娟
- 主分类号: H01L45/00
- IPC分类号: H01L45/00 ; B82Y30/00 ; B82Y40/00
摘要:
本发明的一种多场调控忆阻器及其制备方法,多场调控忆阻器,为三层结构的RRAM,包括顶部电极、介电材料、底部电极、基底;顶部电极与底部电极具有不对称性,以金属作顶部电极,以MXene‑ZnO异质结材料作为介电材料,以氧化铟锡作底部电极,以玻璃片或聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚二甲基硅氧烷作为基底。本发明用MXene‑ZnO为RRAM单元中的存储介质层材料,以旋涂的方式制备MXene‑ZnO层。通过用ZnO纳米颗粒原位修饰MXene纳米片,合成的异质结材料具有良好的绝缘性能、亲水性能和光学性能。本发明可实现基于电场、光场和湿度场调控电导态,同时具有制作工艺简单、大开关比、高存储密度、高稳定性等性能优点,因此具有良好的应用前景,能广泛应用于生活中多个领域。
公开/授权文献
- CN112885964B 一种多场调控忆阻器及其制备方法 公开/授权日:2022-11-01
IPC分类: