发明公开
- 专利标题： 一种蚀刻液组合物及其应用
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申请号： CN202010119750.6申请日： 2020-02-26
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公开(公告)号： CN113106453A公开(公告)日： 2021-07-13
- 发明人: 刘伟 , 杜冰 , 刘文永 , 方磊 , 赵建龙 , 张兵 , 向文胜
- 申请人： 江苏艾森半导体材料股份有限公司
- 申请人地址： 江苏省苏州市昆山市千灯镇黄浦江路1647号
- 专利权人： 江苏艾森半导体材料股份有限公司
- 当前专利权人： 江苏艾森半导体材料股份有限公司
- 当前专利权人地址： 江苏省苏州市昆山市千灯镇黄浦江路1647号
- 代理机构： 北京品源专利代理有限公司
- 代理商 巩克栋
- 主分类号： C23F1/16
- IPC分类号： C23F1/16 ; C23F11/14 ; H01L21/3213
摘要：
本发明涉及一种蚀刻液组合物及其应用，所述蚀刻液组合物包括如下组分：过氧化氢、氟化物、金属缓蚀剂、过氧化氢稳定剂、金属络合剂、无机盐和水。本发明提供的蚀刻液组合物采用了一种新配方，通过各组分之间的协同作用，能够提高蚀刻液组合物能够较好的兼容多种膜层结构和材料，蚀刻后无残留，保存条件温和，降低仓储，运输成本，同时耐受铜离子量高，降低使用成本。
IPC分类:
