本发明涉及显示技术领域，具体涉及一种阵列基板、显示装置及其制备方法。该阵列基板的制备方法包括：提供一个基板；在所述基板上图案化形成公共电极和栅绝缘层；在所述栅绝缘层上采用半掩膜工艺从下至上图案化形成第一绝缘层、半导体层、源漏金属层以及形成与所述栅绝缘层相连通的过孔；在所述源漏金属层上图案化形成用于连接所述过孔的像素电极以及沟道；本申请采用半掩膜工艺将过孔设计在源漏金属层的掩膜过程中完成，从而将现有技术中的过孔掩膜板省略，因此，综上所述，本申请通过省略过孔掩膜板的方式，以减少制备阵列基板所需掩膜板的数目，从而提高阵列基板的生产效率，以及降低生产成本。