- 专利标题： 抑制放大自发辐射和寄生振荡的激光钕玻璃及其制备方法和应用
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申请号： CN202110466209.7申请日： 2021-04-28
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公开(公告)号： CN113185145B公开(公告)日： 2022-05-17
- 发明人: 孔壮 , 刘辉 , 贾金升 , 孙勇 , 曹振博 , 赵冉 , 余刚 , 孟政 , 孟凡禹
- 申请人： 中国建筑材料科学研究总院有限公司
- 申请人地址： 北京市朝阳区管庄东里1号
- 专利权人： 中国建筑材料科学研究总院有限公司
- 当前专利权人： 中国建筑材料科学研究总院有限公司
- 当前专利权人地址： 北京市朝阳区管庄东里1号
- 主分类号： C03C21/00
- IPC分类号： C03C21/00 ; H01S3/16 ; H01S3/17
摘要：
本发明提供了一种抑制放大自发辐射和寄生振荡的激光钕玻璃及其制备方法和应用，该方法包括以下步骤：1)Cu+离子交换；2)电场辅助离子扩散；3)Cu+离子氧化。本发明的激光钕玻璃在1053nm处的反射率0‑1％，铜离子交换层的深度大于250μm。
公开/授权文献
- CN113185145A 抑制放大自发辐射和寄生振荡的激光钕玻璃及其制备方法和应用 公开/授权日：2021-07-30
