发明授权
- 专利标题: 一种耐高压低泄漏箔片端面气膜密封结构
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申请号: CN202110553754.X申请日: 2021-05-20
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公开(公告)号: CN113217632B公开(公告)日: 2023-11-03
- 发明人: 陈源 , 陈凯 , 李孝禄 , 王冰清 , 李运堂 , 彭旭东
- 申请人: 中国计量大学
- 申请人地址: 浙江省杭州市下沙高教园区学源街258号
- 专利权人: 中国计量大学
- 当前专利权人: 中国计量大学
- 当前专利权人地址: 浙江省杭州市下沙高教园区学源街258号
- 代理机构: 南京瑞弘专利商标事务所
- 代理商 施利江
- 主分类号: F16J15/40
- IPC分类号: F16J15/40 ; F16J15/3244 ; F16J15/3268 ; F16J15/3284 ; F16J15/3292
摘要:
本发明公开了一种耐高压低泄漏箔片端面气膜密封结构,包括环本体,环本体上由内向外依次设置有第一圆形凹面、第一圆形台阶、第二圆形凹面和第二圆形台阶。第一密封坝,第一密封坝包括内侧鼓泡箔片和第一环状盖体;内侧鼓泡箔片首尾相接沿周向分别均匀铺设在第一圆形凹面上,上方第一环状盖体。第二密封坝,第二密封坝包括外侧鼓泡箔片和第二环状盖体;外侧鼓泡箔片沿周向铺设在第二圆形凹面上,上方插入第二环状盖体,第二环状盖体上表面设有动压槽,中部箔片机构,中部箔片机构设置在第一圆形台阶上。本发明可以有效的提升弹性箔片端面气膜密封结构的抗冲击能力。内外双重浮动密封坝结构有利于改善密封的控漏能力。
公开/授权文献
- CN113217632A 一种耐高压低泄漏箔片端面气膜密封结构 公开/授权日:2021-08-06
IPC分类: