本发明公开了一种SiF4与HF混合气体的分离方法及系统，是将SiF4与HF混合气体和氢气一起通入微波加热装置中，通过所述微波加热装置将四氟化硅、氟化氢和氢气的混合气体快速加热至600℃‑1200℃，生成硅和氟化氢气体；其后使生成的硅、氟化氢气体以及未反应完的四氟化硅气体和氢气共同进入气固分离装置中，将硅分离出来，剩余气体一同通入冷凝器中；氟化氢气体被冷凝为氟化氢冷凝液体进入精馏塔中进行进一步纯化得到高纯度氟化氢，未反应完的氢气和四氟化硅气体重新返回至所述微波加热装置中进行反应；本发明通过将氢气和四氟化硅气体在系统中循环，使四氟化硅不断还原生成氟化氢，再通过冷凝、精馏得到高纯度的氟化氢。