发明公开
- 专利标题: 辐射检查系统及方法
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申请号: CN202110777658.3申请日: 2021-07-09
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公开(公告)号: CN113238297A公开(公告)日: 2021-08-10
- 发明人: 王伟珍 , 刘必成 , 宗春光 , 孙尚民
- 申请人: 同方威视技术股份有限公司
- 申请人地址: 北京市海淀区双清路同方大厦A座2层
- 专利权人: 同方威视技术股份有限公司
- 当前专利权人: 同方威视技术股份有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市海淀区双清路同方大厦A座2层
- 代理机构: 中国贸促会专利商标事务所有限公司
- 代理商 颜镝
- 主分类号: G01V11/00
- IPC分类号: G01V11/00
摘要:
本公开涉及一种辐射检查系统及方法。辐射检查系统包括:单射线源(10),具有多个加速管(13),所述多个加速管(13)分别产生多条具有不同能量的射线,且所述多个加速管(13)的出束方向包括至少两种不同的出束方向;多个探测器(30),被配置为探测所述单射线源(10)发出的射线作用于被检物(40)时的信号;和处理器(20),与所述单射线源(10)通讯连接,被配置为分别对所述多个加速管(13)进行控制。本公开实施例能够在满足多视角扫描的需求的同时,降低系统复杂度。
公开/授权文献
- CN113238297B 辐射检查系统及方法 公开/授权日:2021-11-02