- 专利标题: 一种具有P面反射电极结构的深紫外LED及其制备方法
-
申请号: CN202011418472.0申请日: 2020-12-07
-
公开(公告)号: CN113257973A公开(公告)日: 2021-08-13
- 发明人: 陈芳 , 莫春兰 , 吴小明 , 夏邦美 , 李新华 , 陶喜霞 , 蒋恺 , 江风益
- 申请人: 南昌大学 , 南昌硅基半导体科技有限公司
- 申请人地址: 江西省南昌市红谷滩新区学府大道999号;
- 专利权人: 南昌大学,南昌硅基半导体科技有限公司
- 当前专利权人: 南昌大学,南昌硅基半导体科技有限公司
- 当前专利权人地址: 江西省南昌市红谷滩新区学府大道999号;
- 代理机构: 江西省专利事务所
- 代理商 张文
- 主分类号: H01L33/40
- IPC分类号: H01L33/40 ; H01L33/36 ; H01L33/00
摘要:
本发明公开了一种具有P面反射电极结构的深紫外LED及其制备方法,所述LED结构包括永久基板、邦定金属层、P面反射电极、P面钝化层、外延层、N面电极和N面钝化层,其中:所述P面反射电极首先在所述P型掺杂层表面制备Ni层,所述Ni层需在氧气氛围下进行快速合金形成欧姆接触;然后在所述Ni层表面依次制备Al层、Ti层、Ag层。所述P面反射电极结构由Ni、Al、Ti、Ag叠层形成,所述Ti层厚度较薄,可以确保腐蚀Ag的同时能腐蚀Ti;Ti层可以有效抑制Al易氧化,同时可以避免Al层和Ag层之间易扩散最终降低芯片光电性能这一问题。本发明提出一种具有P面反射电极结构的深紫外LED,能保证P面反射电极具有抗氧化性能,最终获得高光效深紫外LED。
公开/授权文献
- CN113257973B 一种具有P面反射电极结构的深紫外LED及其制备方法 公开/授权日:2022-05-27
IPC分类: