Invention Grant
- Patent Title: 一种基于III-V族化合物半导体工艺的宽带有源移相器
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Application No.: CN202110664157.4Application Date: 2021-06-16
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Publication No.: CN113452345BPublication Date: 2022-06-03
- Inventor: 陈雪蕾 , 游飞 , 何倩 , 马明明 , 吴雯祺 , 秦荣兴 , 陈茵 , 王瑜
- Applicant: 电子科技大学
- Applicant Address: 四川省成都市高新区(西区)西源大道2006号
- Assignee: 电子科技大学
- Current Assignee: 电子科技大学
- Current Assignee Address: 四川省成都市高新区(西区)西源大道2006号
- Agency: 电子科技大学专利中心
- Agent 吴姗霖
- Main IPC: H03H11/16
- IPC: H03H11/16
Abstract:
本发明提供一种基于III‑V族化合物半导体工艺的宽带有源移相器,属于集成电路技术领域。该移相器提出偏置运算单元以解决III‑V族化合物半导体工艺无法应用经典移相器结构的问题,即吉尔伯特偏置运算单元通过CCVS单元将I/Q两路电流转换成晶体管基极电压,再通过VCCS单元控制晶体管作差运算转换得到数控电流叠加单元输出的I/Q电流比值关系,最后偏置电流控制单元完成对I/Q正交信号合成矢量的象限选择及模拟加法器的电流控制,实现了吉尔伯特单元尾电流的精准调控;并同时提出有源跨导‑结电容多相滤波(gm‑Cbc PPF)结构增强移相器的带宽,最终可实现n bit的相位精度控制,且具有移相精度高、插入损耗低、面积小、工作带宽大且可调等优势。
Public/Granted literature
- CN113452345A 一种基于III-V族化合物半导体工艺的宽带有源移相器 Public/Granted day:2021-09-28
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