发明公开
CN113474878A 制造晶体管器件的方法
审中-实审
- 专利标题: 制造晶体管器件的方法
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申请号: CN201980079030.7申请日: 2019-10-14
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公开(公告)号: CN113474878A公开(公告)日: 2021-10-01
- 发明人: 大卫·萨默兰
- 申请人: 瑟其福耐斯特有限公司
- 申请人地址: 英国诺丁汉
- 专利权人: 瑟其福耐斯特有限公司
- 当前专利权人: 瑟其福耐斯特有限公司
- 当前专利权人地址: 英国诺丁汉
- 代理机构: 北京律诚同业知识产权代理有限公司
- 代理商 徐金国; 吴启超
- 优先权: 1816688.4 20181012 GB 1817199.1 20181022 GB PCT/GB2019/051465 20190529 GB GB.1913638.1 20190920 GB
- 国际申请: PCT/GB2019/052924 2019.10.14
- 国际公布: WO2020/074930 EN 2020.04.16
- 进入国家日期: 2021-05-31
- 主分类号: H01L21/822
- IPC分类号: H01L21/822 ; H01L21/762 ; H01L21/8224 ; H01L27/082 ; H01L29/66 ; H01L21/8222
摘要:
描述了一种利用沟槽(203)细分半导体晶片以便提供独立电隔离区域的方法,所述独立电隔离区域可用于保持以不同电压操作的部件。还描述了一种由沉积在随后图案化的二氧化硅上的多晶硅层形成横向双极型晶体管的集电极区域和发射极区域的掩蔽和蚀刻工艺。
IPC分类: