发明公开
- 专利标题: 一种铼坩埚及其制备方法和应用
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申请号: CN202110771475.0申请日: 2021-07-08
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公开(公告)号: CN113512713A公开(公告)日: 2021-10-19
- 发明人: 魏燕 , 胡昌义 , 蔡宏中 , 胡晋铨 , 周利民 , 张诩翔 , 王献 , 闻明 , 张贵学 , 崔浩 , 陈力 , 汪星强 , 黎玉盛 , 刘盼
- 申请人: 贵研铂业股份有限公司
- 申请人地址: 云南省昆明市高新技术产业开发区科技路988号
- 专利权人: 贵研铂业股份有限公司
- 当前专利权人: 贵研铂业股份有限公司
- 当前专利权人地址: 云南省昆明市高新技术产业开发区科技路988号
- 代理机构: 北京高沃律师事务所
- 代理商 赵琪
- 主分类号: C23C16/14
- IPC分类号: C23C16/14 ; C30B35/00
摘要:
本发明提供了一种铼坩埚及其制备方法和应用,属于金属材料制备技术领域。本发明提供了一种铼坩埚的制备方法,包括以下步骤:在真空条件下,将铼与氯气发生氯化反应,得到ReCl5气体;对基体进行加工,得到沉积铼坩埚用模芯;将所述沉积铼坩埚用模芯预热,得到预热沉积铼坩埚用模芯;将所述ReCl5气体输送至所述预热沉积铼坩埚用模芯的表面进行化学气相沉积,得到铼坩埚。本发明采用现场氯化化学气相沉积(CVD)法制备铼坩埚,具有流程短、工艺成熟、沉积速率快及原材料利用率高的优点,可以得到高致密性、高纯度的铼坩埚。
IPC分类: