本发明涉及半导体加工设备，公开了一种半导体石英部件清洗设备，包括机架、转动安装于机架上且中心带有升降口的摆放台、设置于机架上且位于摆放台一侧的外管壁清洗装置以及升降设置于机架内且位于升降口下方的内管壁清洗装置，所述内管壁清洗装置包括升降台、安装于升降台上的顶喷头和侧喷头，所述顶喷头的出水方向朝向机架上方，所述侧喷头的出水方向朝向机架侧方，且所述侧喷头分布于顶喷头的两侧；本发明顶喷出水的冲洗方式能够让将石英部件上残留的脏污随水流被带走，从而大大提高石英部件的清洗效果，减少水渍的产生。