- 专利标题: 阵列基板的制作方法、阵列基板以及显示装置
-
申请号: CN202110830447.1申请日: 2021-07-22
-
公开(公告)号: CN113534552A公开(公告)日: 2021-10-22
- 发明人: 王明 , 郭会斌 , 高玉杰 , 江鹏 , 沈鹭 , 代耀 , 乔亚峥 , 刘赫 , 孔曾杰 , 丁俊 , 程志伟
- 申请人: 武汉京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
- 申请人地址: 湖北省武汉市东西湖区五环大道1011号;
- 专利权人: 武汉京东方光电科技有限公司,京东方科技集团股份有限公司
- 当前专利权人: 武汉京东方光电科技有限公司,京东方科技集团股份有限公司
- 当前专利权人地址: 湖北省武汉市东西湖区五环大道1011号;
- 代理机构: 北京正理专利代理有限公司
- 代理商 付生辉
- 主分类号: G02F1/1362
- IPC分类号: G02F1/1362 ; G02F1/1343
摘要:
本发明实施例公开一种阵列基板的制作方法、阵列基板以及显示装置。在一具体实施方式中,该制作方法包括:在基板上依次形成公共电极、栅线、有源层、以及数据线;在数据线上形成像素电极材料层;图案化像素电极材料层形成像素电极子材料层,包括缝隙区域;在像素电极子材料层上形成第二光刻胶层;自基板的远离第二光刻胶层的一侧对第二光刻胶层进行曝光并显影,以形成像素电极的保护层,数据线在基板上的正投影到相邻两个保护层在基板上的正投影的距离相等;形成像素电极;去除保护层。该实施方式通过利用第二光刻胶层的曝光显影形成保护层,使得数据线在基板上的正投影到相邻两个保护层在基板上的正投影的距离相等,避免了信号串扰。
公开/授权文献
- CN113534552B 阵列基板的制作方法、阵列基板以及显示装置 公开/授权日:2023-03-28
IPC分类: