发明授权
- 专利标题: 下入光式红外传感器元件及其制造方法
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申请号: CN202110913917.0申请日: 2021-08-10
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公开(公告)号: CN113629164B公开(公告)日: 2024-04-12
- 发明人: 朱忻
- 申请人: 苏州矩阵光电有限公司
- 申请人地址: 江苏省苏州市张家港市凤凰镇凤凰科技大道科技园D栋矩阵光电
- 专利权人: 苏州矩阵光电有限公司
- 当前专利权人: 苏州矩阵光电有限公司
- 当前专利权人地址: 江苏省苏州市张家港市凤凰镇凤凰科技大道科技园D栋矩阵光电
- 代理机构: 北京毕科锐森知识产权代理事务所
- 代理商 王静; 陶涛
- 主分类号: H01L31/101
- IPC分类号: H01L31/101 ; H01L31/18 ; G01J5/22
摘要:
本发明的实施例公开了一种下入光式红外传感器元件及其制造方法,所述下入光式红外传感器元件包括至少一个化合物半导体叠层,能够检测波长大于等于1微米的红外线并输出表示该检测的电信号;含有IC电路的基板,所述IC电路对从半导体叠层输出的电信号进行处理并进行运算以获得检测结果;粘结层,所述粘结层将至少一个化合物半导体叠层键合到含有IC电路的基板上。所述至少一个化合物半导体叠层的电极与IC电路的引线端电连接,所述基板上设置有至少一个光学窗以允许入射光穿过进入到至少一个化合物半导体叠层中。本发明属于半导体技术领域。下入光式红外传感器元件可在室温下工作,不易受暗电流、电磁噪声以及热波动的影响,且结构紧凑。
公开/授权文献
- CN113629164A 下入光式红外传感器元件及其制造方法 公开/授权日:2021-11-09
IPC分类: