- 专利标题: 可用于800℃及以上的准光学微腔基选择性吸收涂层
-
申请号: CN202110988627.2申请日: 2021-08-26
-
公开(公告)号: CN113699482B公开(公告)日: 2023-08-22
- 发明人: 曹峰 , 王建 , 张倩 , 伍作徐 , 刘一杰
- 申请人: 哈尔滨工业大学(深圳)
- 申请人地址: 广东省深圳市南山区桃源街道深圳大学城哈尔滨工业大学校区
- 专利权人: 哈尔滨工业大学(深圳)
- 当前专利权人: 哈尔滨工业大学(深圳)
- 当前专利权人地址: 广东省深圳市南山区桃源街道深圳大学城哈尔滨工业大学校区
- 代理机构: 深圳市添源创鑫知识产权代理有限公司
- 代理商 覃迎峰
- 主分类号: C23C14/06
- IPC分类号: C23C14/06 ; C23C14/08 ; C23C14/10 ; C23C14/35 ; F24S70/225
摘要:
本发明提供了一种可用于800℃及以上的准光学微腔基选择性吸收涂层,其由下至上依次包括红外反射层、准光学微腔吸收体和光学减反层,所述光学减反层包括Al2O3减反层、SiO2减反层中的至少一种;所述准光学微腔吸收体从下到上依次包括第一准光学微腔选择性吸收层、超高温陶瓷材料层、第二准光学微腔选择性吸收层;所述第一准光学微腔选择性吸收层和第二准光学微腔选择性吸收层为超高温陶瓷材料‑Al2O3或SiO2复合材料;所述红外反射层的材质为超高温陶瓷材料;所述超高温陶瓷材料为碳化物、氮化物、硼化物中的至少一种。采用本发明的技术方案具有高光谱选择性;而且具有高温热稳定性。
公开/授权文献
- CN113699482A 可用于800℃及以上的准光学微腔基选择性吸收涂层 公开/授权日:2021-11-26